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德“算出”可提高硬盘性能的新材料

时间:2009-12-19 14:04 来源:科技日报
德国莱布尼茨固体与材料研究所17日宣布,他们的一项理论计算结果显示,六碳环结构与钴聚合物有望使硬盘存储密度增加近千倍,其存储寿命有可能明显超过当前磁性记录存储技术大约10年的存储寿命极限。
  

  新华社柏林12月17日电(记者班玮)德国莱布尼茨固体与材料研究所17日宣布,他们的一项理论计算结果显示,六碳环结构与钴聚合物有望使硬盘存储密度增加近千倍,其存储寿命有可能明显超过当前磁性记录存储技术大约10年的存储寿命极限。
 

  据该机构专家介绍,这家研究所和德累斯顿工业大学的专家通过理论计算发现,在苯或石墨烯的六碳环结构中嵌入两个钴原子,并让其中一个钴原子与碳环结合后,在施加弱磁场和强电场的情况下,可以实现两个钴原子间的磁场切换,从而实现更强大的数据存储功能。
 

  随着存储技术的发展,目前一个太比特(TB)硬盘可存储一个中型图书馆的信息量,其磁存储技术使用的是直径约为8纳米的钴粒。而新研究中,苯的六碳环直径只有0.5纳米,因而存储密度大大提升。
 

  但参加这项研究的专家也指出,这一理论研究结果还有待试验来验证。

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